Ultra-Clean-Technology for Future Semiconductor Fabrication
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- OHMI Tadahiro
- 東北大学未来科学技術共同研究センター
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- TERAMOTO Akinobu
- 東北大学未来科学技術共同研究センター
Bibliographic Information
- Other Title
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- 超精密加工・計測を支える環境制御技術 次世代半導体プロセスにおけるウルトラクリーンテクノロジー 全くゆらぎのない半導体製造プロセス
- カイセツ ジ セダイ ハンドウタイ プロセス ニ オケル ウルトラクリーンテクノロジー マッタク ユラギ ノ ナイ ハンドウタイ セイゾウ プロセス
- 全くゆらぎのない半導体製造プロセス
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Journal
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- Journal of the Japan Society for Precision Engineering
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Journal of the Japan Society for Precision Engineering 68 (9), 1144-1149, 2002
The Japan Society for Precision Engineering
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679774695936
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- NII Article ID
- 110001373814
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- NII Book ID
- AN1003250X
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- ISSN
- 1882675X
- 09120289
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- NDL BIB ID
- 6290163
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles