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- OKAWARA Makoto
- 大阪府立大学工学部
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- HARUKI Eiichi
- 大阪府立大学工学部
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- IMOTO Eiji
- 大阪府立大学工学部
Bibliographic Information
- Other Title
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- 隣接SH基を含む高分子チオールの合成
Description
ポリスチレン, ポリビニルアルコール, ポリアクリル酸を原料として, 次のような隣接S H を含有する高分子チオール(III~VII)を,そして特に(III),(IV)のモデル物質として(I),(II)を合成した。<BR>各ポリマーについてAg+,Hg2+の交換吸着量(E)を測定した。(IV)は特に大きいE値(Ag+4.69,Hg2+5.93meq/g)を示す。一般に隣接SH基は極めて酸化されやすいため,SH%とEの間に一定の関係をみ出せないが,(III)の場合Ag+に対してはSH%-E 間の比例関係が認められた。
Journal
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- The Journal of the Society of Chemical Industry, Japan
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The Journal of the Society of Chemical Industry, Japan 64 (1), 229-231, 1961
The Chemical Society of Japan
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680108060800
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- NII Article ID
- 130004274887
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- ISSN
- 21850860
- 00232734
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- Crossref
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed