プラズマを用いたグラフェンの高品質高速大面積CVD 合成

DOI Web Site Web Site 参考文献45件
  • 長谷川 雅考
    産業技術総合研究所　ナノ材料研究部門 技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部
  • 津川 和夫
    技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部
  • 加藤 隆一
    技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部
  • 古賀 義紀
    技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部
  • 石原 正統
    産業技術総合研究所　ナノ材料研究部門 技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部
  • 山田 貴壽
    産業技術総合研究所　ナノ材料研究部門 技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部
  • 沖川 侑揮
    産業技術総合研究所　ナノ材料研究部門 技術研究組合単層CNT 融合新材料研究開発機構グラフェン事業部

書誌事項

タイトル別名
  • High quality large-area graphene synthesis with high growth rate using plasma-enhanced CVD
  • プラズマを用いたグラフェンの高品質高速大面積CVD合成 : 高スループットプロセスを目指して
  • プラズマ オ モチイタ グラフェン ノ コウヒンシツ コウソク ダイ メンセキ CVD ゴウセイ : コウスループットプロセス オ メザシテ
  • — 高スループットプロセスを目指して —
  • — Toward a high throughput process —

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説明

グラフェンの合成技術は熱CVD法が世界の潮流となっている。グラフェンによる透明導電フィルム等の工業利用実現のためには、さらなる高スループット生産が必要である。我々はいち早くプラズマCVD法を取り入れ、グラフェンの高速・大面積成膜技術の開発に取り組んできた。この論文では透明導電フィルム利用に向けた、グラフェンの高速・大面積プラズマ成膜プロセス開発について報告し、不純物混入の解決、グラフェン核形成密度の低減による品質向上等について報告する。

収録刊行物

  • Synthesiology

    Synthesiology 9 (3), 124-138, 2016

    国立研究開発法人 産業技術総合研究所

参考文献 (45)*注記

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