キャピラリーによるイオンビームの収束

DOI Web Site 参考文献4件
  • 渡辺 幸次
    産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
  • 近藤 貢二
    産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
  • 藤原 幸雄
    産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
  • 齋藤 直昭
    産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
  • 野中 秀彦
    産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
  • 一村 信吾
    産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門

書誌事項

タイトル別名
  • Focusing of Ion Beams by Using a Capillary
  • キャピラリー ニ ヨル イオンビーム ノ シュウソク

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抄録

  A ruby capillary which is available as an industrial product for the wire bonding machines for the microelectronics has been adopted to focus ion beams passively for the first time. An Ar+ ion beam with a beam current density of 3×10-6 A•cm-2 at an energy of 4 keV has been found to penetrate steadily the ruby capillary and the behavior of the beam through the capillary has been investigated in details. It has been also found that a large amount of secondary electrons are generated when the ion beam hits the capillary and a negative bias should be applied to the Faraday cup to measure the ion beam current through the capillary though the positive ion beam is to be measured.<br>

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