３つのスルフィド部位を有する新規シリル配位子を用いた遷移金属錯体の合成とその構造
書誌事項
- タイトル別名
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- Synthesis and Structures of Transition Metal Complexes with New Silyl Ligands Bearing Three Sulfide Moieties
抄録
近年、多座配位子を用いることにより，小分子の活性化などの特異な反応性を持つ遷移金属錯体が合成され，その化学に興味が持たれている。そこで、本研究では一つのシリル部位と三つのスルフィド部位を有する新規四座配位子[(RSCH2)C6H4]3SiH (1)を合成し、Ir(_III_)、Pt(_II_)に関する錯体を合成した。現在、Pd、Rh錯体の合成を検討している。
収録刊行物
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- 基礎有機化学討論会要旨集（基礎有機化学連合討論会予稿集）
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基礎有機化学討論会要旨集（基礎有機化学連合討論会予稿集） 2009 (0), 111-111, 2009
基礎有機化学会（基礎有機化学連合討論会）
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680533555328
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- NII論文ID
- 130004728716
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可