VUV光照射によるPHPS薄膜のSiO<SUB>2</SUB>薄膜への転換過程とガスバリア性の調査

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タイトル別名
  • Conversion of Perhydropolysilazane Films into Silica Films Induced by Vacuum Ultraviolet Light Irradiation and their Gas Barrier Properties

説明

SiO2薄膜は基板にH2Oなどのガスバリア性をはじめとして電気絶縁性、光透過性、耐熱性、耐摩耗性、化学的耐食性などの機能を付加することができるので、さまざまな用途への応用が期待されている。ポリシラザンはSi-N骨格を主鎖とする無機ポリマーであり、とくに(H2SiNH)nで表わされるペルヒドロポリシラザン(PHPS)は大気焼成やNH3水蒸気への曝露によりSiO2へ転換できる。PET基板上に作製したPHPS薄膜にVUV光を照射することで得られるSiO2薄膜はNH3水蒸気中への曝露により得られるSiO2膜などと比較してガスバリア性が向上する。そこでPHPS薄膜がVUV光の照射によりSiO2薄膜へと転換する過程の組成や構造の変化を追跡することでガスバリア性との関連性を調査した。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680594387456
  • NII論文ID
    130006975753
  • DOI
    10.14853/pcersj.2010s.0.2p138.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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