Phase transition of the amorphous iron disilicide thin-film by the Nd:YAG laser irradiation

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  • レーザ照射による非晶質鉄シリサイドの相転移

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環境負荷が小さく、低コストで、軽量、高出力の熱電素子を作製するための基礎研究として、室温でのシリサイド薄膜熱電材料の作製法を検討している。現在、室温作製した鉄シリサイド薄膜は非晶質部を含み、熱電特性を低下させている。そこで、Nd:YAGレーザを短時間照射することにより、非晶質鉄シリサイドをβ-FeSi2化することを試みた。その結果、レーザ照射により、β化が可能であることが明らかとなった。

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  • CRID
    1390282680594588288
  • NII Article ID
    130006976074
  • DOI
    10.14853/pcersj.2009s.0.436.0
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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