スピンスプレー法によるZnO薄膜の作製と評価

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書誌事項

タイトル別名
  • Fabrication of ZnO thin film by Spin Spray technique
公開日
2008
DOI
  • 10.14853/pcersj.2008f.0.579.0
公開者
公益社団法人 日本セラミックス協会

説明

本研究ではスピンスプレー法により酸化亜鉛膜を作製した。スピンスプレー法とは回転する加熱された基板上(＜100℃)に、原料水溶液と酸化剤を含む水溶液を別々のスプレーノズルから噴射することによって、基板上での化学反応と不均一核生成により製膜する方法である。この方法は水溶液から低温での製膜が可能である点や、高い製膜速度という利点を持っており、近年フェライト膜作製の研究が精力的に行われている。しかし、これらの利点にもかかわらずフェライト以外の酸化物膜作製への応用はほとんど行われていなかった。本研究はこのスピンスプレー法を用いて酸化亜鉛膜の作製に成功した初めての報告となる。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680596477952
  • NII論文ID
    130006979069
  • DOI
    10.14853/pcersj.2008f.0.579.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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