Study on Detection of Silicon Wafer Surface Defects by Using Infrared Evanescent Light (6th Report) - Internal Defect Detection
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- Nakajima Ryusuke
- Osaka University
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- Takahashi Satoru
- Osaka University
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- Miyoshi Takashi
- Osaka University
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- Takaya Yasuhiro
- Osaka University
Bibliographic Information
- Other Title
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- 赤外エバネッセント光によるSiウエハ加工表面層欠陥検出に関する研究(第6報)
- 内部欠陥検出
Abstract
シリコンウエハ内部に数十nmの微小欠陥が存在する場合に,その周囲における電磁場の分布を3次元FDTD法によって解析した.その結果ウエハ表面のエバネッセント場をプローブで走査した場合に,得られる強度分布から,その検出が可能であることを示した.この結果に基づき,実際にウエハ内にFIBを用いて擬似内部欠陥を作成し,それの検出を試みた結果より,本提案手法の微小内部欠陥検出への適用の可能性が示された.
Journal
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- Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
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Proceedings of JSPE Semestrial Meeting 2003S (0), 580-580, 2003
The Japan Society for Precision Engineering
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680627299840
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- NII Article ID
- 130004655175
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed