磁気ディスク基板のポリシング温度の検討

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タイトル別名
  • Investigation on Polishing Temperature of Magnetic Disk Substrate

抄録

先の研究で，磁気ディスク基板のポリシング加工において，高速度・高圧力の条件が加工能率の向上に有用であることを確認した．ポリシング抵抗の大きな高能率の加工では，加工部の温度は急激に上昇し，加工特性やポリシャの強度に影響を及ぼすことが考えられる．本報では，加工部の熱発生の要因と抑制法を検討し，ポリシング定盤を冷却することで，急激なポリシャ温度の上昇を抑制することができた．

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680629302144
  • NII論文ID
    130004658053
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2006a.0.255.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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