MEMS技術を応用したCMP用マイクロパターンパッドの研究

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  • PEEK材を使用した耐摩耗性パッドの評価

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CMP技術に使用されるポリシングパッドの表面形状はコンディショニングによりランダムで複雑であり，その表面形状が研磨に及ぼす影響は未だ解明されていない．そこでマイクロメートルオーダーの表面形状を設計したポリシングパッドを製作し，研磨を行うことで最適な表面形状を追求する．本研究では設計した表面形状を研磨中より長く保つ必要がある．そこで本報告ではPEEK材を用い，耐摩耗性の向上を図る．

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  • CRID
    1390282680631677824
  • NII Article ID
    130005030614
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2011s.0.349.0
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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