プラズマ援用研磨法の開発（第８報）
書誌事項
- タイトル別名
-
- サファイア基板へのプラズマ援用研磨適用に関する基礎検討
説明
単結晶サファイア基板はInGaN系青色LEDにおけるGaN成長用の下地基板として用いられる。サファイア基板の研磨にプラズマ援用研磨を適用することで10倍の加工速度が得られた。また、XPSを用いた測定により水蒸気プラズマ照射によってサファイア基板表面の水和が進行されることが示唆された。本報では、高圧直流パルス電源を用いた誘電体バリア放電を新たに適用し、大気開放雰囲気下におけるプラズマ照射が加工特性に与える影響を検証した。
収録刊行物
-
- 精密工学会学術講演会講演論文集
-
精密工学会学術講演会講演論文集 2013A (0), 221-222, 2013
公益社団法人 精密工学会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390282680631707392
-
- NII論文ID
- 130004661110
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- CiNii Articles
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可