シリコンの結晶異方性ウェットエッチングによる円錐形状の表面微細構造の作製
書誌事項
- タイトル別名
-
- Fabrication of conical microstructures on the surface of single crystal silicon substrate by anisotropic etching
説明
本研究では,水酸化テトラメチルアンモニウムを使用した単結晶シリコン(SCS)の結晶異方性ウェットエッチングにおいて,その条件等により加工後の形状を制御することで,昨年度までに作製した凸の四角錐形状に加え,円錐形状の表面微細構造の作製を試みた。特に,ウェットエッチングにおけるSCS基板の結晶異方性とエッチング時の保護マスクパターン形状に着目することで,底面が円形状の表面微細構造物の作製に成功した。
収録刊行物
-
- 精密工学会学術講演会講演論文集
-
精密工学会学術講演会講演論文集 2015S (0), 797-798, 2015
公益社団法人 精密工学会
- Tweet
キーワード
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390282680636938368
-
- NII論文ID
- 130005486574
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- CiNii Articles
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可