シリコンの結晶異方性ウェットエッチングによる円錐形状の表面微細構造の作製

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Fabrication of conical microstructures on the surface of single crystal silicon substrate by anisotropic etching

説明

本研究では，水酸化テトラメチルアンモニウムを使用した単結晶シリコン(SCS)の結晶異方性ウェットエッチングにおいて，その条件等により加工後の形状を制御することで，昨年度までに作製した凸の四角錐形状に加え，円錐形状の表面微細構造の作製を試みた。特に，ウェットエッチングにおけるSCS基板の結晶異方性とエッチング時の保護マスクパターン形状に着目することで，底面が円形状の表面微細構造物の作製に成功した。

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680636938368
  • NII論文ID
    130005486574
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2015s.0_797
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ