Fabrication of conical microstructures on the surface of single crystal silicon substrate by anisotropic etching

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  • シリコンの結晶異方性ウェットエッチングによる円錐形状の表面微細構造の作製

Abstract

本研究では，水酸化テトラメチルアンモニウムを使用した単結晶シリコン(SCS)の結晶異方性ウェットエッチングにおいて，その条件等により加工後の形状を制御することで，昨年度までに作製した凸の四角錐形状に加え，円錐形状の表面微細構造の作製を試みた。特に，ウェットエッチングにおけるSCS基板の結晶異方性とエッチング時の保護マスクパターン形状に着目することで，底面が円形状の表面微細構造物の作製に成功した。

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Keywords

Details

  • CRID
    1390282680636938368
  • NII Article ID
    130005486574
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2015s.0_797
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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