電界イオン顕微鏡における電界吸着原子上の電場強度の定量的評価II
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- TOYOIZUMI SHUYA
- 大阪市立大学大学院工学研究科
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- YAMADA TATSUKI
- 大阪市立大学大学院工学研究科
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- OHTA YASUSHI
- 大阪市立大学大学院工学研究科
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- KOBAYASHI ATARU
- 大阪市立大学大学院工学研究科
Abstract
電界イオン顕微鏡（FIM）像の結像機構の詳細を明らかにするため、μプローブホールFIMを用いて単一試料表面原子位置から放射される電界イオンを直接的に計数計測し、試料探針への印加電圧依存性を調べた。異なる最良結像電場強度を持つHeとNeをイメージングガスであるだけでなく、イオン化時の電場強度を示す指標として利用し、個々の表面原子上の空間に形成されるイオン化領域の大きさと電場強度の定量的評価を行った。
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 34 (0), 37-, 2014
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Keywords
Details
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- CRID
- 1390282680654419968
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- NII Article ID
- 130005481108
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed