DCマグネトロンスパッタリングによる窒化ジルコニウム薄膜の作成と物性

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書誌事項

タイトル別名
  • Formation and properties of the Zirconium nitride thin film by the DC magnetron sputtering

説明

 円筒型ジルコニウムターゲットを用いた反応性DCマグネトロンスパッタリング法による窒化ジルコニウム薄膜の作成をガラス基板上に行った。不活性ガスであるアルゴンの流量を一定に保ち、窒素流量及び基盤温度をパラメーターとして変化させた。作成した試料の膜厚、光学特性、X線回折を用いた結晶構造解析により窒化ジルコニウム薄膜の評価を行った。

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680654509440
  • NII論文ID
    130005489141
  • DOI
    10.14886/sssj2008.35.0_115
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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