- 【Updated on May 12, 2025】 Integration of CiNii Dissertations and CiNii Books into CiNii Research
- Trial version of CiNii Research Knowledge Graph Search feature is available on CiNii Labs
- 【Updated on June 30, 2025】Suspension and deletion of data provided by Nikkei BP
- Regarding the recording of “Research Data” and “Evidence Data”
Infrared spectroscopic study on reactions during hydrogen plasma irradiation onto Si
-
- Takami Yoshiki
- 長崎大学大学院工学研究科
-
- Takaki Yuya
- 長崎大学大学院工学研究科
-
- Shinohara Masanori
- 長崎大学大学院工学研究科
-
- Matsuda Yoshinobu
- 長崎大学大学院工学研究科
-
- Fujiyama Hiroshi
- 長崎大学大学院工学研究科
Bibliographic Information
- Other Title
-
- 水素プラズマ-シリコンの反応の赤外分光計測
Description
水素プラズマによってSi基板はアモルファス化されることが知られている。この反応過程の詳細を明らかにするために，多重内部反射赤外吸収分光法を用いて水素プラズマとSi基板との相互作用を調べた。Si基板の水素プラズマ照射により Siは水素化されSiH2が形成されて安定化する。生成されたSiH2の赤外吸収ピークと水素プラズマ照射の時間との比較より，水素プラズマ照射に対する反応次数を0.5で説明できることが分かった。
Journal
-
- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
-
Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 32 (0), 163-, 2012
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
- Tweet
Keywords
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1390282680656328448
-
- NII Article ID
- 130005456518
-
- Data Source
-
- JaLC
- CiNii Articles
-
- Abstract License Flag
- Disallowed