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Oxidation of amorphous carbon film due to oxygen molecules and oxygen plasma
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- Shinohara Masanori
- Graduate School of Science and Technology, Nagasaki Univ.
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- Kawakami Taka-aki
- Graduate School of Science and Technology, Nagasaki Univ.
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- Kawazoe Hiroki
- Graduate School of Science and Technology, Nagasaki Univ.
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- Inayoshi Takanori
- Graduate School of Science and Technology, Nagasaki Univ.
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- Matsuda Yoshinobu
- Faculty of Engineering, Nagasaki Univ.
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- Fujiyama Hiroshi
- Graduate School of Science and Technology, Nagasaki Univ.
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- Nitta Yuuki
- TOYO-atec Co. L.T.D.
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- Nakatani Tatsuyuki
- TOYO-atec Co. L.T.D.
Bibliographic Information
- Other Title
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- 酸素分子・酸素プラズマによるアモルファス炭素膜の酸化反応
Description
水素化アモルファス炭素膜は疎水性を示すが、表面を酸化することにより親水化できることが知られている。そこで、酸化はどのように進むのか、多重内部反射赤外吸収分光法で調べたので報告する。ごく初期の酸化過程を調べるために、炭素膜を形成後大気に取り出すことなく、酸素分子を供給した。その結果、C-O結合がO-H結合よりも形成されやすいことが分かった。また、酸素プラズマに曝露すると、O-H結合が形成されることが分かった。
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 29 (0), 148-148, 2009
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680656386688
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- NII Article ID
- 130004674124
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed