Initial Silicidation on Ni surfaces studied by Scanning Tunneling Microscopy
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- Fukuda Tsuneo
- Graduate School of Engineering, Osaka City University
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- Kishida Ippei
- Graduate School of Engineering, Osaka City University
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- Umezawa kenji
- Faculty of Liberal Arts and Sciences, Osaka Prefecture University
Bibliographic Information
- Other Title
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- Ni表面のシリサイド形成初期過程のSTM観察
Description
Ni(111)、(100)、(110)表面でのSi吸着後形成されるシリサイド構造を超高真空下でSTM観察を行った。Ni(111)表面では、Siが1/3ML吸着したroot-3構造が安定構造であり、Ni(100)表面では1/2MLのroot-2構造、Ni(110)表面では1/2MLのp(1x2)、c(2x2)、c(4x2)構造が共存することが分かった。
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 36 (0), 411-, 2016
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680656440576
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- NII Article ID
- 130005175739
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed