Ni表面のシリサイド形成初期過程のSTM観察
書誌事項
- タイトル別名
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- Initial Silicidation on Ni surfaces studied by Scanning Tunneling Microscopy
説明
Ni(111)、(100)、(110)表面でのSi吸着後形成されるシリサイド構造を超高真空下でSTM観察を行った。Ni(111)表面では、Siが1/3ML吸着したroot-3構造が安定構造であり、Ni(100)表面では1/2MLのroot-2構造、Ni(110)表面では1/2MLのp(1x2)、c(2x2)、c(4x2)構造が共存することが分かった。
収録刊行物
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- 表面科学学術講演会要旨集
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表面科学学術講演会要旨集 36 (0), 411-, 2016
公益社団法人 日本表面真空学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680656440576
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- NII論文ID
- 130005175739
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可