Environment controlled Raman spectroscopy of graphene on SiO2/Si substrate

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Other Title
  • SiO2/Si基板上グラフェンの環境制御ラマン分光測定

Description

酸素プラズマアッシャー処理を施したSiO2/Si基板上に機械的剥離法によってグラフェンを作製し,環境制御チャンバ内においてラマン分光法で評価した.アニール処理によってG・2Dバンドそれぞれのダウンシフト,水蒸気雰囲気中におけるそれぞれのアップシフトを観測した.プラズマ処理によってSiO2表面にシラノール基が形成され,これと水素結合した水分子の流入出による効果を表していると考える.

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1390282680656515968
  • NII Article ID
    130005175924
  • DOI
    10.14886/sssj2008.36.0_440
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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