SiO2/Si基板上グラフェンの環境制御ラマン分光測定

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書誌事項

タイトル別名
  • Environment controlled Raman spectroscopy of graphene on SiO2/Si substrate

説明

酸素プラズマアッシャー処理を施したSiO2/Si基板上に機械的剥離法によってグラフェンを作製し，環境制御チャンバ内においてラマン分光法で評価した．アニール処理によってG・2Dバンドそれぞれのダウンシフト，水蒸気雰囲気中におけるそれぞれのアップシフトを観測した．プラズマ処理によってSiO2表面にシラノール基が形成され，これと水素結合した水分子の流入出による効果を表していると考える．

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680656515968
  • NII論文ID
    130005175924
  • DOI
    10.14886/sssj2008.36.0_440
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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