書誌事項
- タイトル別名
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- Chemical Mechanical Polishing of SiC Substrate using Enhanced Slurry of Nano-Bubbles with Active Gas by Plasma
収録刊行物
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- 北陸信越支部総会・講演会 講演論文集
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北陸信越支部総会・講演会 講演論文集 2017.54 (0), G013-, 2017
一般社団法人 日本機械学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680842500608
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- NII論文ID
- 130007110318
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- ISSN
- 24242772
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- Crossref
- CiNii Articles