02aB06 ZnMOPDを原料とするZnOのMOCVD(半導体エピ(4),第36回結晶成長国内会議)

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書誌事項

タイトル別名
  • 02aB06 Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films by Using ZnMOPD as a Source Material(NCCG-36)

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説明

A new precursor, ZnMOPD, and water vapor were used to form zinc oxide films by MOCVD. On (0001) sapphire substrate ZnO films with (0001) orientation were grown at 500℃.

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680873265664
  • NII論文ID
    110006208539
  • NII書誌ID
    AN00188386
  • DOI
    10.19009/jjacg.33.4_276
  • ISSN
    21878366
    03856275
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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