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- 住谷 圭二
- 日立化成工業株式会社研究開発本部機能性材料研究所
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- Senguttuvan Nachimuthu
- 日立化成工業株式会社研究開発本部機能性材料研究所
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- 清水 成宜
- 日立化成工業株式会社研究開発本部機能性材料研究所
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- 青嶌 真裕
- 日立化成工業株式会社研究開発本部機能性材料研究所
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- 石橋 浩之
- 日立化成工業株式会社研究開発本部機能性材料研究所
書誌事項
- タイトル別名
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- CaF_2 Single Crystal for Semiconductor Lithography(<Special Issue>Crystal Growth Technology of Fluoride and Oxide Developed from the Viewpoint of Their Material and Functional Properties)
- 半導体リソグラフィー用CaF2単結晶
- ハンドウタイ リソグラフィーヨウ CaF2タンケッショウ
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抄録
半導体素子の微細化,高集積化に重要な役割を果たすのが半導体リソグラフィー技術であり,その光学系を構成する材料は高品質性,最産安定性の面において非常に重要な要素となっている,本報告では半導体リソグラフィー用途の光学材料であるCaF_2単結晶について,特に育成技術と光学的品質向上に焦点を当て,要求仕様と潜在的技術課題,それを実現してきた高品質大型単結晶育成技術,さらに複屈折やレーザー照射耐性などの光学特性の向上について研究を進めた結果を述べる.
収録刊行物
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- 日本結晶成長学会誌
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日本結晶成長学会誌 33 (3), 135-140, 2006
日本結晶成長学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680873634944
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- NII論文ID
- 110008592987
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- NII書誌ID
- AN00188386
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- ISSN
- 21878366
- 03856275
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- NDL書誌ID
- 8597509
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可