書誌事項
- タイトル別名
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- Crystal Structure and Epitaxy of Copper Phthalocyanine on Alkali-halide Substrates(<Special Issue>Organic Crystals)
- アルカリハライド基板上での銅フタロシアニンの結晶構造とエピタキシー
- アルカリハライド キバン ジョウ デ ノ ドウ フタロシアニン ノ ケッショウ コウゾウ ト エピタキシー
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抄録
真空蒸着法を用いた有機エピタキシーの研究のなかで最も早く行われたものの一つは,アルカリハライド基板上での銅フタロシアニンのエピタキシャル成長についてであった.この研究のなかで,エピタキシャル方位と基板上に吸着したフタロシアニン分子の方位との関係が議論された.しかしながら,配向性の起源について,とくに界面での格子整合に関してはこれまで十分な理解が得られてこなかった.この解説では,平面型フタロシアニンの結晶構造に関する誤解が,その理解を阻んでいたことを明らかにする.そして,新たに解析された結晶構造をもとに,界面での格子整合と,基板上での分子方位の影響について議論する.
収録刊行物
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- 日本結晶成長学会誌
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日本結晶成長学会誌 32 (5), 353-357, 2005
日本結晶成長学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680874112384
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- NII論文ID
- 110007327722
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- NII書誌ID
- AN00188386
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- ISSN
- 21878366
- 03856275
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- NDL書誌ID
- 7784711
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可