書誌事項
- タイトル別名
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- Epitaxial Growth of Organic Thin Films on Alkali Halide Substrates(<Special Issue>Organic Crystals)
- アルカリハライド基板上での有機薄膜のエピタキシー
- アルカリハライド キバン ジョウ デ ノ ユウキ ハクマク ノ エピタキシー
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抄録
有機化合物をアルカリハライド基板上に真空蒸着すると,化合物はアイランド状に結晶成長し,多くの場合,各アイランドはエピタキシャルに面内で配向する.また,膜の厚み方向の配向や現れる結晶多形についても,成膜条件や基板種類によって異なる場合が多い.我々は,主にX線回折を用いて,このような有機薄膜のエピタキシーに関する現象を様々な有機化合物について調べてきた.本稿では導電性有機化合物を中心にアルカリハライド上の多様なエピタキシーを紹介する.また,これらの現象を通して考えられるエピタキシーの機構を議論する.
収録刊行物
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- 日本結晶成長学会誌
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日本結晶成長学会誌 32 (5), 358-364, 2005
日本結晶成長学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680874113664
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- NII論文ID
- 110007327720
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- NII書誌ID
- AN00188386
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- ISSN
- 21878366
- 03856275
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- NDL書誌ID
- 7784724
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- IRDB
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可