書誌事項
- タイトル別名
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- An Introduction to Chemical Vapor Deposition
- CVD ハクマク ケイセイ ギジュツ
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抄録
An outline of CVD (Chemical Vapor Deposition) technology is described. The CVD technology is widely used in semiconductor manufacturing process. The classification, features and applications of CVD are summarized.
収録刊行物
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- CORROSION ENGINEERING
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CORROSION ENGINEERING 39 (10), 576-581, 1990
社団法人 腐食防食協会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282681235554176
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- NII論文ID
- 130006025364
- 130004732140
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- NII書誌ID
- AN00225595
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- ISSN
- 18841155
- 00109355
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- NDL書誌ID
- 3692518
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可