N<SUP>+</SUP>イオン注入したZr/サファイヤの界面状態

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タイトル別名
  • Interface of N<SUP>+</SUP>ion-Implanted Zn/sapphire
  • N + イオン チュウニュウシタ Zr サファイア ノ カイメン ジョウタイ

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抄録

The interface of the Zr/sapphire implanted with N+ ions were examined by RBS and cross-sectional TEM observations. The ion implantation induced the interdiffusion of atoms at the interface and the clear border-line between the Zr film and sapphire was found to disappear. The thickness of the diffusion layer was estimated to be about 10 nm at the interface of the Zr/sapphire implanted with N+ ions to the dose of 2×1017/cm2.

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