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- 大西 剛
- 国立研究開発法人 物質・材料研究機構
書誌事項
- タイトル別名
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- Synthesis of High Quality Complex Oxide Thin Films by Pulsed Laser Deposition
- パルスレーザー タイセキホウ ニ ヨル コウヒンシツフクサンカブツ ハクマク ノ サクセイ
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説明
Reproducible way to grow high quality complex oxide thin films by means of pulsed laser deposition is addressed. Laser ablation conditions are the most essential ones to be controlled precisely because it directly relates to cation ratio of deposited thin films. In some specific case, substrate temperature and gas pressure also become important to control the film composition. Film quality is tightly correlated to the thin film stoichiometry.
収録刊行物
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- 表面科学
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表面科学 38 (5), 216-221, 2017
公益社団法人 日本表面科学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282681436099200
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- NII論文ID
- 130007332067
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- NII書誌ID
- AN00334149
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- ISSN
- 18814743
- 03885321
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- NDL書誌ID
- 028223281
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
- KAKEN
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可