走査イオン顕微鏡像の基礎と解釈
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- 石谷 亨
- (株)日立ハイテクノロジーズ
書誌事項
- タイトル別名
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- Basics and Interpretation of Scanning-Ion-Microscope Images
抄録
<p>走査イオン顕微鏡(SIM)(照射イオン種:GaおよびHe)が持つ二次電子(SE)像情報について,走査電子顕微鏡(SEM)と比較しながら解説した.SE像情報の解析にはモンテカルロシミュレーション法を用い,SEを衝突励起する被衝突粒子,すなわち入射イオン,反挑試料原子,および励起SE電子(電子衝突カスケード)の全軌道を追跡した.Ga-SIMでは,SE収率はZ2の増加と共に緩やかなおおむね減少傾向(ただし,周期律に依存した変化が重畳)を示し,SEMと逆傾向にある.He-SIMにおけるSE収率のZ2依存性は,Gaイオン照射と電子照射の中間の特性となり,Z2依存性は弱い.SIM像の材料コントラスト,情報深さ,像分解能,表面形状コントラストに関係するSE収率の入射角依存性,および電圧コントラストに関係するSEの放出エネルギー分布の特性について,SEM像と対比した.</p>
収録刊行物
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- 顕微鏡
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顕微鏡 47 (1), 26-32, 2012-03-30
公益社団法人 日本顕微鏡学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390283659829801088
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- NII論文ID
- 130007768861
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- ISSN
- 24342386
- 13490958
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可