スパッタ法によるp型B-doped BaSi<sub>2</sub>膜の作製と評価

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Characterizations of p-type B-doped BaSi<sub>2</sub> films formed by sputtering

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390293334799669632
  • DOI
    10.57295/jpvsproc.2.0_111
  • ISSN
    24366498
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC

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