4wayラップ盤における定盤の変化とウェーハ挙動の関係に関する研究
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- Ogami Kazuma
- Kanazawa Institute of Technology
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- Suwabe Hitoshi
- Kanazawa Institute of Technology
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- Ishikawa Ken-ichi
- Kanazawa Institute of Technology
Abstract
<p>4wayラップ盤の加工ではウェーハを上定盤と下定盤で挟んで加工するため,加工中にウェーハを観察することが困難である.そのため,ウェーハ挙動が加工影響について明らかになっていない部分が多い.そこで本研究では,アクリル板を上定盤の代わりに使用することでウェーハを可視化し,下定盤の回転速度と上定盤の溝を変化させて観察を行った.そして,下定盤の回転速度と上定盤の溝がウェーハ挙動に与える影響について検討した.</p>
Journal
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- Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
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Proceedings of JSPE Semestrial Meeting 2022A (0), 392-393, 2022-08-25
The Japan Society for Precision Engineering
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390295259235431296
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
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- Abstract License Flag
- Disallowed