各種UV硬化性樹脂に対する低残膜ナノインプリント転写とその応用
説明
<p>ナノインプリントリソグラフィは微細なパターンを作製することができるが、UV硬化性樹脂のパターンと基板の間に残膜という余分な樹脂層が生じる。今回残膜の除去方法として、剥離によって余剰なUV硬化樹脂を取り除く液体分離方式インプリントリソグラフィ(LTIL)とロールプレスを組み合わせ使用した。そして、粘度が異なる2900から30000 mPa・sの高粘度UV硬化樹脂を用いて低残膜化を行った。</p>
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2019S (0), 544-545, 2019-03-01
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390564227299660032
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- NII論文ID
- 130007702667
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
