Studies on CuPc adsorption process on Si (100) surface by scanning tunneling microscopy
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- kurahashi syouta
- Kyushu Institute of Technology
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- Umeda Kyosei
- Kyushu Institute of Technology
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- Takigawa Rui
- Kyushu Institute of Technology
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- Naitoh Masamichi
- Kyushu Institute of Technology
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- Ikari Tomonori
- National Institute of Technology, Ube College
Bibliographic Information
- Other Title
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- 走査トンネル顕微鏡によるSi(100)面上のCuPc吸着過程に関する研究
Abstract
高度情報化社会の急速な発展に伴い昨今のデバイスの小型化には限界がきており、<br><br>近い将来微細化技術が原子・分子レベルまで到達されると予想され新たな材料開発が必要である。<br><br>そこで我々は有機分子である銅フタロシアニンに着目した。<br><br>分子の配向、配列を制御した有機薄膜の構築には、基板表面第一層の配向制御が必要であるので、<br><br>STMを用いて銅フタロシアニンの吸着初期過程の研究を行った。
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 2018 (0), 287-, 2018
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Details
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- CRID
- 1390564238044661632
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- NII Article ID
- 130007519310
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed