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- Parinyataramas Jamreonta
- Nanoscience and Technology, Graduate school, Chulalongkorn University
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- Sanorpim Sakuntam
- Nanoscience and Technology, Graduate school, Chulalongkorn University Department of Physics, Faculty of Science, Chulalongkorn University
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- Thanachayanont Chanchana
- National Metal and Materials Technology Center
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- Onabe Kentaro
- Department of Advanced Materials Science, The University of Tokyo
書誌事項
- タイトル別名
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- TEM Study of Structural Phase Transition in Cubic Phase GaN Grown on GaAs (001) with AlGaAs Intermediated Layer
- AlGaAs バッファソウ オ ユウスル GaAs 001 キバン ジョウ ニ セイチョウ サセタ リッポウショウ GaN ノ コウゾウ ソウ テンイ ノ TEM ニ ヨル ケンキュウ
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説明
<p>AlGaAsバッファ層を使ったGaAs(001)基板上の有機金属気相エピタキシャル成長による立方晶GaN膜における構造相転移を透過電子顕微鏡法(TEM)で調べた.立方晶GaN層のナノスケールでの構造相転移に対するAlGaAsバッファ層の役割に焦点をおいた.挿入されたバッファ層は高成長温度(900°C以上)でGaAs基板が熱分解することを防ぐ保護層として振る舞うことがわかった.このことによってGaN/AlGaAs界面での孔(voids)が生成することなくGaAs基板上にGaN層を成長させることができる.他方,立方晶GaN/GaAs/AlGaAs/GaAs(001)基板多層構造では孔の生成が観察されたが,これらの孔はAlGaAsバッファ層界面で留まることがわかった.しかしながらこのAlGaAsバッファ層はGaN最上層内で立方晶から六方晶への相転移を誘起することが明らかになった.この立方晶から立方晶/六方晶混晶へのナノ構造相転移の存在と立方晶GaN層内でのエピタキシャル方位関係をTEM観察によって解析した.これらの結果は,フォトルミネッセンス,ラマン散乱測定によって確認された.</p>
収録刊行物
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- 顕微鏡
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顕微鏡 45 (1), 13-17, 2010-03-30
公益社団法人 日本顕微鏡学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390565134818397440
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- NII論文ID
- 130007788925
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- NII書誌ID
- AA11917781
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- ISSN
- 24342386
- 13490958
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- NDL書誌ID
- 10652260
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可