書誌事項
- タイトル別名
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- Investigation of point defects in GaN for the realization of high performance GaN vertical power devices
- GaN タテガタ パワーデバイス ジツゲン ニ ムケタ テン ケッカン ヒョウカ
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説明
<p>GaN縦型パワーデバイスのエピタキシャル成長,デバイスプロセスの開発,あるいは,デバイス設計に点欠陥の知見は不可欠であるが,SiやGaAsに比べると,GaNの点欠陥の理解はまだまだ不足している.議論が分かれていた電子トラップの起源特定,n型GaN中の正孔トラップの簡便な定量評価方法の開発や測定の高速化によるウェーハマッピング,電子線照射により意図的に窒素原子のみを変位させることにより,窒素空孔や格子間窒素の作るトラップ準位,アニール挙動など,筆者らが取り組んできた研究について紹介する.</p>
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 90 (10), 628-631, 2021-10-05
公益社団法人 応用物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390571106619074688
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- NII論文ID
- 130008101195
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL書誌ID
- 031761213
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可