ALD法を用いて作成したSi直上Al:HfO<sub>2</sub>準安定相の結晶化過程
書誌事項
- タイトル別名
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- Crystallization process of metastable Al-doped HfO<sub>2</sub> films directly on Si by atomic layer depositio
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.2 (0), 897-897, 2020-08-26
公益社団法人 応用物理学会