ミストCVD法によるγ-(Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>)<sub>2</sub>O<sub>3</sub>混晶薄膜成長
書誌事項
- タイトル別名
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- Epitaxial growth of γ-(Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>)<sub>2</sub>O<sub>3</sub> alloy thin films by mist chemical vapor deposition
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.1 (0), 3521-3521, 2020-02-28
公益社団法人 応用物理学会