ミストCVD法によるγ-(Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>)<sub>2</sub>O<sub>3</sub>混晶薄膜成長

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Epitaxial growth of γ-(Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>)<sub>2</sub>O<sub>3</sub> alloy thin films by mist chemical vapor deposition

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ