近接場ミュラー偏光顕微鏡の開発
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- 大久保 進也
- 沼津高専 制御情報工学科
書誌事項
- タイトル別名
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- Development of scanning near-field Mueller matrix polarimetry microscope
抄録
<p>近接場光学顕微鏡は，ナノ領域における物性の光学的評価に欠かせない重要なツールとして幅広く用いられている．これまでに，試料の複屈折分布をイメージングに成功している．しかしながら，偏光特性には複屈折以外にも複吸収や偏光解消など様々なものがあり，これらを光の回折限界を超えた分解能での同時取得が必要となる．そこで本研究では近接場ミュラー偏光顕微鏡を開発し，ナノ領域における偏光特性のイメージングを行った．</p>
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2022S (0), 180-181, 2022-03-02
公益社団法人 精密工学会