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- 中村 嘉孝
- 八戸工業高等専門学校
書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of the TiO2 Electrode for Artificial Photosynthesis by the Sputtering Method
- スパッタリングホウ ニ ヨル ジンコウ コウゴウセイヨウ サンカ チタン デンキョク ノ ゴウセイ
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抄録
We prepared the TiO2 thin film electrodes for artificial photosynthesis by using the RF magnetronsputtering method. The TiO2 thin films deposited on MgO, LaAlO3, Al2O3, LaSrAlTaO and SrTiO3 single crystalsubstrates had an anatase, rutile and brookite crystal structures. We found that the crystal structure of TiO2 thinfilms depends on deposition conditions, such as total sputtering pressure, substrate materials and crystal planes ofsubstrate surface.
収録刊行物
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- 八戸工業高等専門学校紀要
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八戸工業高等専門学校紀要 47 (0), 21-25, 2012-12-21
国立高等専門学校機構 八戸工業高等専門学校
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390845713025850880
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- NII論文ID
- 110009585609
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- NII書誌ID
- AN00205099
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- ISSN
- 24332003
- 03854124
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- NDL書誌ID
- 024799485
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可