半導体洗浄装置内に発生する大規模渦構造の制御について

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• CRID

  1390848647552693248

• NII論文ID

  130007908067

• DOI

  10.1299/jsmecs.2020.58.05b5

• ISSN

  24242764

• Web Site

  https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsmecs/2020.58/0/2020.58_05b5/_pdf

• 本文言語コード

  ja

• データソース種別

  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles
  • OpenAIRE