Flattening the surface of a silicon wafer with acrylic plate and water

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  • アクリル定盤と水によるシリコンウエハー表面の平坦化

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<p>半導体デバイスや光学素子であるミラーの表面作製では、現在原子レベルの超平坦化技術が用いられている。これまでの研究で、様々な有機材料の中でアクリルを定盤に利用することで、水だけでガラス表面の原子レベル平坦化加工を実現した。本研究では、本手法をシリコンウェハー表面の平坦化に応用し、RMS0.08nmの原子レベルで平滑な面であることを確認した。</p>

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