極低温領域におけるCHF3ガス凝縮層を用いたエッチングプロセスの研究
書誌事項
- タイトル別名
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- Study of etching process using CHF3 gas condensed layer in cryogenic region
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.1 (0), 1581-1581, 2020-02-28
公益社団法人 応用物理学会