ミストCVD法Hf<sub>x</sub>Zr<sub>1-x</sub>O<sub>2</sub>薄膜特性の製膜後RTA依存性
書誌事項
- タイトル別名
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- Physical properties of mist CVD-derived HZO films dependent on post deposition annealing by RTA
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2021.1 (0), 1170-1170, 2021-02-26
公益社団法人 応用物理学会