リン固相拡散ドーピングを導入したFinFETの寄生抵抗の評価

DOI

松川貴

産総研
森貴洋

産総研
澤田佳宏

東京応化工業
木下洋平

東京応化工業
柳永勛

産総研
昌原明植

産総研

書誌事項

タイトル別名

Parasitic resistance characterization of FinFETs doped by solid-diffusion of phosphorus

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.2 (0), 2937-2937, 2018-09-05

公益社団法人応用物理学会

キーワード

詳細情報詳細情報について

CRID

1390856384291807104
DOI

10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_2937
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

書き出し

問題の指摘

ページトップへ