反応性スパッタリング法による太陽電池パッシベーション膜の作製と評価
書誌事項
- タイトル別名
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- ハンノウセイ スパッタリングホウ ニ ヨル タイヨウ デンチ パッシベーションマク ノ サクセイ ト ヒョウカ
- Preparation and characterization of surface passivation film of silicon solar cells by reactive sputtering method
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収録刊行物
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- 東京工業高等専門学校研究報告書 = Research reports of Tokyo National College of Technology / 東京工業高等専門学校図書委員会 編
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東京工業高等専門学校研究報告書 = Research reports of Tokyo National College of Technology / 東京工業高等専門学校図書委員会 編 (45), 71-76, 2013-09
八王子 : 東京工業高等専門学校
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009407056579840
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- NII論文ID
- 40019838787
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- NII書誌ID
- AN0040772X
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- ISSN
- 02860503
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- NDL書誌ID
- 024951161
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles