SiN/AlN積層構造によるAlGaN/GaNヘテロ接合電界効果トランジスタの表面パッシベーション
Bibliographic Information
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- SiN/AlN セキソウ コウゾウ ニ ヨル AlGaN/GaN ヘテロ セツゴウ デンカイ コウカ トランジスタ ノ ヒョウメン パッシベーション
- Surface passivation of AlGaN/GaN heterojunction field-effect transistors by SiN/AlN bilayer structure
- 電子デバイス
- デンシ デバイス
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 108 (87), 1-4, 2008-06
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520009407106641280
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- NII Article ID
- 10030997784
- 110006951199
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 9573279
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles