ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性
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- ノボラックケイ ポジガタ レジスト チュウ ノ カンコウザイリョウ ノ ソウイ ニ ヨル ゲンゾウ トクセイ
- Relationship between the development property and the photo active compound contents of the positive-tone novolak resist
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- 電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス = The IEICE transactions on electronics. C / 電子情報通信学会 編
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電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス = The IEICE transactions on electronics. C / 電子情報通信学会 編 93 (10), 360-366, 2010-10
東京 : 電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520009407717123968
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- NII Article ID
- 110007730053
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- NII Book ID
- AA11412446
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- ISSN
- 13452827
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- NDL BIB ID
- 10853561
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
