AN OPTIMIZATION TOOL FOR 3D LITHOGRAPHY UTILIZING DMD-BASED MASKLESS EXPOSURE SYSTEM
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- 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]
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「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 31 5p-, 2014-10
[東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan