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微細MOSトランジスタの逆狭チャネル効果の解析--高誘電体ゲート絶縁膜の影響
Bibliographic Information
- Other Title
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- ビサイ MOS トランジスタ ノ ギャクキョウチャネル コウカ ノ カイセキ コウユウデンタイ ゲート ゼツエン マク ノ エイキョウ
- 特集:プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般
- トクシュウ プロセス デバイス カイロ シミュレーション オヨビ イッパン
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 102 (344), 7-11, 2002-09-30
東京 : 電子情報通信学会
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520009407739738112
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- NII Article ID
- 110003295306
- 110003311046
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- NII Book ID
- AN10013323
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- ISSN
- 09135685
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL Search
- CiNii Articles